A all llwyfannau manwl gywirdeb gwenithfaen gael marciau arwyneb?

Wrth gomisiynu platfform manwl gywirdeb gwenithfaen ar gyfer metroleg neu gydosod risg uchel, mae cleientiaid yn aml yn gofyn: a allwn ni addasu'r wyneb gyda marciau—megis llinellau cyfesurynnau, patrymau grid, neu bwyntiau cyfeirio penodol? Yr ateb, gan wneuthurwr manwl iawn fel ZHHIMG®, yw ie pendant, ond mae gweithredu'r marciau hyn yn gelfyddyd gynnil sy'n gofyn am arbenigedd i sicrhau bod y marciau'n gwella, yn hytrach na chyfaddawdu, cywirdeb craidd y platfform.

Pwrpas Marciau Arwyneb Manwl

Ar gyfer y rhan fwyaf o blatiau wyneb gwenithfaen safonol neu sylfeini peiriannau, y prif nod yw cyflawni'r gwastadrwydd a'r sefydlogrwydd geometrig uchaf posibl. Fodd bynnag, ar gyfer cymwysiadau fel jigiau cydosod ar raddfa fawr, gorsafoedd calibradu, neu osodiadau archwilio â llaw, mae angen cymhorthion gweledol a chorfforol. Mae marciau arwyneb yn cyflawni sawl swyddogaeth hanfodol:

1. Canllawiau Aliniad: Yn darparu llinellau cyfeirio cyflym, gweledol ar gyfer lleoli gosodiadau neu rannau yn fras cyn ymgysylltu â chamau micro-addasu.
2. Systemau Cyfesurynnau: Sefydlu grid cyfesurynnau cychwynnol clir (e.e., echelinau XY) y gellir ei olrhain i'r pwynt canol neu'r data ymyl.
3. Parthau Dim Mynd: Marcio ardaloedd lle na ddylid gosod offer i gynnal cydbwysedd neu atal ymyrraeth â systemau integredig.

Yr Her Cywirdeb: Marcio Heb Ddifrodi

Yr anhawster cynhenid ​​​​yw'r ffaith na ddylai unrhyw broses a ddefnyddir i roi marciau—ysgythru, peintio, neu beiriannu—amharu ar y gwastadrwydd is-micron neu nanometr sydd eisoes wedi'i gyflawni gan y broses lapio a graddnodi drylwyr.

Gall dulliau traddodiadol, fel ysgythru dwfn neu grafu, gyflwyno straen lleol neu ystumio arwyneb, gan beryglu'r union gywirdeb y mae'r gwenithfaen wedi'i gynllunio i'w gyflawni. Felly, mae'r broses arbenigol a ddefnyddir gan ZHHIMG® yn defnyddio dulliau a beiriannwyd i leihau effaith:

• Ysgythru/Engrafiad Bas: Fel arfer, rhoddir y marciau trwy engrafiad manwl gywir, bas—yn aml yn llai na ±0.1 mm o ddyfnder. Mae'r dyfnder hwn yn hanfodol oherwydd ei fod yn caniatáu i'r llinell fod yn weladwy ac yn gyffyrddol heb leihau sefydlogrwydd strwythurol y gwenithfaen yn sylweddol na gwyrdroi'r gwastadrwydd cyffredinol.
• Llenwyr Arbenigol: Fel arfer mae'r llinellau wedi'u hysgythru wedi'u llenwi ag epocsi neu baent cyferbyniol, gludedd isel. Mae'r llenwr hwn wedi'i beiriannu i wella'n wastad â'r wyneb gwenithfaen, gan atal y marcio ei hun rhag dod yn bwynt uchel a fyddai'n ymyrryd â mesuriadau neu arwynebau cyswllt dilynol.

Cywirdeb y Marciau yn erbyn Gwastadrwydd y Platfform

Mae'n hanfodol i beirianwyr ddeall y gwahaniaeth rhwng cywirdeb gwastadrwydd y platfform a chywirdeb lleoliad y marciau:

• Gwastadrwydd Platfform (Cywirdeb Geometreg): Dyma'r mesuriad eithaf o ba mor berffaith wastad yw'r arwyneb, yn aml wedi'i warantu i'r lefel is-micron, wedi'i ddilysu gan interferometrau laser. Dyma'r safon gyfeirio graidd.
• Cywirdeb Marcio (Cywirdeb Lleoliad): Mae hyn yn cyfeirio at ba mor gywir y mae llinell neu bwynt grid penodol wedi'i osod o'i gymharu ag ymylon data neu ganolbwynt y platfform. Oherwydd lled cynhenid ​​y llinell ei hun (sydd fel arfer tua ±0.2mm i fod yn weladwy) a'r broses weithgynhyrchu, mae cywirdeb lleoliadol y marciau fel arfer wedi'i warantu i oddefgarwch o ± 0.1 mm i ± 0.2 mm.

Er y gall y cywirdeb lleoliadol hwn ymddangos yn llac o'i gymharu â gwastadrwydd nanometr y gwenithfaen ei hun, bwriedir y marciau ar gyfer cyfeirio gweledol a gosod, nid ar gyfer y mesuriad manwl gywirdeb terfynol. Mae wyneb y gwenithfaen ei hun yn parhau i fod y cyfeirnod manwl gywirdeb sylfaenol, annewidiol, a dylid cymryd y mesuriad terfynol bob amser gan ddefnyddio offer metroleg sy'n cyfeirio at awyren wastad ardystiedig y platfform.

I gloi, mae marciau arwyneb personol ar blatfform gwenithfaen yn nodwedd werthfawr ar gyfer gwella llif gwaith a gosodiad, a gellir eu gweithredu heb beryglu perfformiad manwl gywirdeb uchel y platfform. Fodd bynnag, rhaid iddynt gael eu pennu a'u cymhwyso gan wneuthurwr arbenigol, gan sicrhau bod y broses farcio yn parchu uniondeb sylfaenol y sylfaen gwenithfaen dwysedd uwch-uchel.