A fydd sylfaen y peiriant gwenithfaen yn ehangu oherwydd gwres yn ystod sganio wafer?

Yn y cyswllt allweddol o weithgynhyrchu sglodion - sganio wafer, mae cywirdeb yr offer yn pennu ansawdd y sglodion. Fel elfen bwysig o'r offer, mae problem ehangu thermol sylfaen y peiriant gwenithfaen wedi denu llawer o sylw.

Mae cyfernod ehangu thermol gwenithfaen fel arfer rhwng 4 ac 8 × 10⁻⁶/℃, sy'n llawer is na chyfernod ehangu thermol metelau a marmor. Mae hyn yn golygu pan fydd y tymheredd yn newid, mae ei faint yn newid yn gymharol fach. Fodd bynnag, dylid nodi nad yw ehangu thermol isel yn golygu nad oes ehangu thermol. O dan amrywiadau tymheredd eithafol, gall hyd yn oed yr ehangu lleiaf effeithio ar gywirdeb nanosgâl sganio wafer.

Yn ystod y broses sganio wafer, mae sawl rheswm dros ehangu thermol. Bydd yr amrywiadau tymheredd yn y gweithdy, y gwres a gynhyrchir gan weithrediad cydrannau offer, a'r tymheredd uchel ar unwaith a ddaw o brosesu laser i gyd yn achosi i'r sylfaen wenithfaen "ehangu a chrebachu oherwydd newidiadau tymheredd". Unwaith y bydd y sylfaen yn cael ehangu thermol, gall sythder y rheilen ganllaw a gwastadrwydd y platfform wyro, gan arwain at lwybr symud anghywir y bwrdd wafer. Bydd y cydrannau optegol ategol hefyd yn symud, gan achosi i'r trawst sganio "wyro". Bydd gweithio'n barhaus am amser hir hefyd yn cronni gwallau, gan wneud y cywirdeb yn waeth ac yn waeth.

Ond peidiwch â phoeni. Mae gan bobl atebion eisoes. O ran deunyddiau, bydd gwythiennau gwenithfaen â chyfernod ehangu thermol is yn cael eu dewis a'u trin â heneiddio. O ran rheoli tymheredd, mae tymheredd y gweithdy yn cael ei reoli'n fanwl gywir ar 23 ± 0.5 ℃ neu hyd yn oed yn is, a bydd dyfais afradu gwres gweithredol hefyd yn cael ei chynllunio ar gyfer y sylfaen. O ran dyluniad strwythurol, mabwysiadir strwythurau cymesur a chefnogaeth hyblyg, a chynhelir monitro amser real trwy synwyryddion tymheredd. Mae'r gwallau a achosir gan anffurfiad thermol yn cael eu cywiro'n ddeinamig gan algorithmau.

Mae offer pen uchel fel peiriannau lithograffeg ASML, trwy'r dulliau hyn, yn cadw effaith ehangu thermol y sylfaen wenithfaen o fewn ystod fach iawn, gan alluogi cywirdeb sganio'r wafer i gyrraedd y lefel nanometr. Felly, cyn belled â'i fod wedi'i reoli'n iawn, mae'r sylfaen wenithfaen yn parhau i fod yn ddewis dibynadwy ar gyfer offer sganio wafer.